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真空电镀(PVD)的基本原理

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真空电镀(PVD)的基本原理

分类:
行业新闻
发布时间:
2015/06/10
【摘要】:
真空电镀(PVD)的基本原理  惰性气体或反应气体电离为气体离子,气体离子因靶(所谓靶是IP电  镀的消耗材料)的负电位形成定向运动,轰击固体靶材表面进行能量  交换,使靶材获得能量溅射出靶原子或分子,在电场加速运动下产生  物理气象沉积(PVD)于所电镀产品表面,形成电镀层。  PVD表面处理特点是:  1、光泽度好  2、无镍环保  3、延长基本寿命1~2年

  真空电镀(PVD)的基本原理

  惰性气体或反应气体电离为气体离子,气体离子因靶(所谓靶是IP电

  镀的消耗材料)的负电位形成定向运动,轰击固体靶材表面进行能量

  交换,使靶材获得能量溅射出靶原子或分子,在电场加速运动下产生

  物理气象沉积(PVD)于所电镀产品表面,形成电镀层。

  PVD表面处理特点是:

  1、光泽度好

  2、无镍环保

  3、延长基本寿命1~2年